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Development of SiC micro tube from polycarbosilane by EB irradiation

ポリカルボシラン繊維から電子線照射により形成する炭化ケイ素マイクロチューブの開発

杉本 雅樹; Wach, R. A.; 吉川 正人

Sugimoto, Masaki; Wach, R. A.; Yoshikawa, Masahito

耐熱・耐蝕性に優れた炭化ケイ素(SiC)のマイクロチューブをケイ素高分子から合成する新技術について講演する。具体的には、ケイ素高分子を繊維化し電子線照射で表面のみ酸化して架橋させ、未架橋の繊維内部を溶媒で抽出することで中空構造を形成し、その後不活性ガス中で熱処理してセラミックに転換する手法について発表し、詳細な議論を行う。得られたSiCマイクロチューブは、約20cm程度の長さで、電子線照射条件によりその壁厚を2$$sim$$20$$mu$$mの範囲で制御している。1000$$^{circ}$$Cを超える耐熱性と耐蝕性を有し、アモルファス構造を利用したガス選択分離性の付与が可能であることから、比表面積の大きな高効率フィルターや吸着材等への応用が期待できる。

no abstracts in English

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