1-8keV領域用斜入射多層膜反射鏡の生成と評価

Development of multilayer mirrors for use in the energy range of 1-8keV

石野 雅彦; 小池 雅人; 佐野 一雄*; Gullikson, E. M.*; Heimann, P. A.*

Ishino, Masahiko; Koike, Masato; Sano, Kazuo*; Gullikson, E. M.*; Heimann, P. A.*

1-8keVのエネルギー領域には元素の吸収端が数多く存在することから、吸収や光電効果などにより物質と強く相互作用する。また、特性X線も多く存在することから、半導体素子等の材料開発及び元素分析,物質構造や磁性材料の機能性解明の分野で広く利用されている。しかし、このエネルギー領域では全反射を利用した斜入射光学系が主流であり、特に結像光学系では収差の増大など好ましくない現象が避けられない。また、この領域は回折格子分光器と結晶分光器とをつなぐ境界領域でもあることから、高い反射率を得る反射鏡や高い効率と高い分解能を両立する分光素子、そして、偏光素子の開発が必要となる。そこで、われわれは1-8keVのエネルギー領域で機能する光学素子(反射鏡,分光素子など)への応用を目的として、多層膜反射鏡の生成と評価を開始した。反射率の理論から、高い反射率が期待できる多層膜として、Co/Si多層膜を見いだした。イオンビームスパッタ法によりCo/Si多層膜を成膜し、X線回折(反射率)測定による構造評価を行った。また、放射光による反射率測定の結果についても報告する。

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