W/C multilayered laminar-type holographic grating and its application to a high efficiency grazing incidence monochromator for the 1-8 keV region

W/C多層膜ラミナー型ホログラフィック回折格子とその1-8keV領域用高効率斜入射分光器への応用

小池 雅人; 石野 雅彦; 佐野 一雄*; 竹中 久貴*; 畑山 雅俊*; Heimann, P. A.*; Gullikson, E. M.*; 笹井 浩行*

Koike, Masato; Ishino, Masahiko; Sano, Kazuo*; Takenaka, Hisataka*; Hatayama, Masatoshi*; Heimann, P. A.*; Gullikson, E. M.*; Sasai, Hiroyuki*

1-8keV領域を対象としたW/C多層膜ラミナー型ホログラフィック回折格子の設計,製作,回折効率評価について述べる。ホログラフィック法と反応性イオンビームエッチング法により作成されたラミナー型回折格子にマグネトロンマグネトロンスパッタリング法によりタングステンと炭素からなる多層膜を蒸着した多層膜回折格子を作成した。回折格子の刻線密度は1200本/mm、溝深さは3nm、デューティ比(山部の幅/格子定数)は0.45、総膜層数は100、有効面積は45mm35mmである。この回折格子をX線回折装置で8.05keV、米国ローレンスバークレー研究所先進光源施設(Advanced Light Source)BL-5.3.1で2.5-8keV、同BL-6.3.2で775-1000eV、立命館大学SRセンターBL-11で600-1400eVの範囲で1次光の回折効率を測定した。その結果8keVで38.1%のこれまでの最大の回折効率が得られた。1-8keVの全領域に渡る平均回折効率も10%程度あった。さらにこの回折格子を用いると仮定し可変偏角斜入射分光器を設計し、分解能,スループットの予測を行った。

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