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Laser ion-acceleration scaling laws seen in multiparametric particle-in-cell simulations

マルチパラメトリックPICシミュレーションによるレーザーイオン加速比例則

Esirkepov, T. Z.; 山極 満; 田島 俊樹

Esirkepov, T. Z.; Yamagiwa, Mitsuru; Tajima, Toshiki

強度$$10^{20}$$-$$10^{22}$$W/c$$m^{2}$$$$times$$($$mu$$m/$$lambda$$$$)^{2}$$のレーザーパルスをダブルレイヤーターゲットに照射して駆動されるイオン加速について、マルチパラメトリックPIC(Particle-in-Cell)シミュレーションにより探る。レーザー強度${it I}$を与えた場合、広範囲の厚さ${it l}$及び密度$$n_{e}$$のターゲットに対し、ある面密度$$sigma$$=$$n_{e}$$ ${it l}$においてイオンのエネルギーゲインは最も高くなり、このとき、$$sigma$$$$sqrt{I}$$に比例する。また、薄膜ターゲットに対しレーザーパルス幅を最適化することにより、イオンの最大エネルギー$$E_{max}$$はレーザーパルスパワーの平方根にスケールする。さらに、レーザー場の放射圧が優勢となる場合は、$$E_{max}$$はレーザーパルスエネルギーに比例する。

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分野:Physics, Multidisciplinary

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