EUV光源の原子過程モデル

Modeling of the atomic processes in the EUV source plasmas

佐々木 明; 西原 功修*; 砂原 淳*; 西川 亘*; 香川 貴司*; 小池 文博*; 田沼 肇*

Sasaki, Akira; Nishihara, Katsunobu*; Sunahara, Atsushi*; Nishikawa, Takeshi*; Kagawa, Takashi*; Koike, Fumihiro*; Tanuma, Hajime*

次世代半導体リソグラフィ用EUV光源の高効率化,高出力化を目指して行っているシミュレーションについて発表する。光源として用いられる電子温度20-50eVのプラズマ中のXe, Snイオンのエネルギー準位,衝突や輻射による電離,励起のレートをHULLACコードで求め、それを用いた衝突輻射モデルでプラズマの発光スペクトルやオパシティの検証を行った。詳細な実験との比較を通じて、モデル中の共鳴線の波長やサテライト線の分布の改良を行うことにより、計算によるスペクトルが実験とよりよく一致するようになった。Snの波長13.5nm領域における異なる価数のイオンからの放射が作るスペクトルの構造を再現できるようになった。これらの結果をもとに、実用化のための115W光源の実現に向けたプラズマ条件の最適化について検討する。

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