電極表面連続研磨器具付き白金電極を用いる水溶液酸化還元電位の安定測定

Stable measurement of redox potential of aqueous solution using platinum electrode with continuous polishing tool

井岡 聖一郎; 岩月 輝希  ; 加藤 修*; 今北 毅*

Ioka, Seiichiro; Iwatsuki, Teruki; Kato, Osamu*; Imakita, Tsuyoshi*

不活性条件化において白金電極を連続的に研磨しながら溶液の酸化還元電位を測定する場合と、連続研磨無しで溶液の酸化還元電位を測定する場合に得られる酸化還元電位の差異について検討した。連続研磨を実施した測定条件下では、溶液の酸化還元電位は、すぐに安定状態に達した。その溶液の酸化還元電位は、HSとSが酸化還元平衡にあるとの仮定に基づいて熱力学的に算出される酸化還元電位とほぼ一致していることから、HSとSの酸化還元反応が酸化還元電位におもに寄与していると考えられた。一方、連続研磨を行わずに溶液の酸化還元電位を測定した場合、連続研磨を実施した場合の酸化還元電位より約0.2V高い値が得られた。この原因として、白金電極表面への硫酸アニオンの吸着などの、電極-溶液間の電気化学的環境の変化が考えられた。

Performance test for redox potential measurement of solution was conducted using continuous polished and untreated Platinum working electrodes in under inert condition. The redox potential measured by polished electrode immediately shows steady value, and approximately coincides with the equilibrium value of redox reaction between HS and S. Then the redox potentials would be controlled by the equilibrium of the redox reaction. On the other hand, redox potential measured by untreated electrode was +0.2V higher than that measured by continuous polished electrode. The redox potential measured implies that the SO is dominant species in solution. Disagreement of redox potentials measured by polished and untreated electrodes may be caused by deactivation of platinum electrode of adsorption of sulfuric acid anions.