Gasochromic properties of nanostructured tungsten oxide films prepared by sputtering deposition

スパッタリング法によりナノ構造を持たせた酸化タングステンのガスクロミック特性

高野 勝昌; 井上 愛知; 山本 春也; 杉本 雅樹; 吉川 正人; 永田 晋二*

Takano, Katsuyoshi; Inoue, Aichi; Yamamoto, Shunya; Sugimoto, Masaki; Yoshikawa, Masahito; Nagata, Shinji*

雰囲気ガスの混合比と成膜時の温度をパラメータとした反応性スパッタリング法により酸化タングステン薄膜を作製し、X線回折測定,ラマン散乱測定及び原子間力顕微鏡による測定より膜の構造を調べた。その結果、成膜時の温度を400C以上にすると、膜にナノサイズの結晶構造を付与できることがわかった。水素ガスに対するガスクロミック特性を調べたところ、膜の結晶サイズが大きいほど着色速度が速いことがわかった。

The amorphous, polycrystalline, and oriented films of the tungsten oxide were fabricated by sputtering deposition. It is found that each film has different roughness in the surface. The films with rough surface show fast coloration in 1% hydrogen. There is possibility that the gasochromic properties are improved effectively by the control of the surface morphology, and the films with large grains on the surface have better gasochromic coloration.