Polarized neutron reflectometry as a nondestructive tool for studies on the buried interfaces in magnetic thin films

磁性薄膜の中に埋もれた界面を研究する非破壊的手法としての偏極中性子反射率法

武田 全康  

Takeda, Masayasu

中性子反射率計は現在、物性研究から生体物質の研究に及ぶ非常に幅広い分野で使われている。X線反射率計と中性子反射率計を比較した時に、最も大きな特徴は、中性子は物質中の磁気モーメントに対して感度を有することである。そのため、中性子反射率計は磁性薄膜,磁性多層膜の研究に唯一かつ非破壊的な、非常に強力な研究手段である。反射率法では、層状構造の厚さ方向に対する変化をとらえるだけでなく、表面から奥深くに埋もれた界面の面内方向に関する構造情報も調べることができる。そのような情報はTMR磁気読み取りヘッドなどの磁気デバイスの性能向上に対して非常に有用である。本講演では、磁性薄膜の研究分野と磁気デバイス開発での中性子反射率法の実際の使われ方を紹介するとともに、スピンラベル法という、これまでにない原理を利用した新しい中性子反射率測定への国外の取り組みについても触れる。

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