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Electron paramagnetic resonance study of carbon antisite-vacancy pair in $$p$$-type 4$$H$$-SiC

電子常磁性共鳴を用いた$$p$$型4$$H$$-SiC中の格子置換位置炭素-空孔ペアの研究

梅田 享英*; 大島 武; 森下 憲雄; 伊藤 久義; 磯谷 順一*

Umeda, Takahide*; Oshima, Takeshi; Morishita, Norio; Ito, Hisayoshi; Isoya, Junichi*

炭化ケイ素(SiC)中のシリコン格子置換位置炭素(C$$_{rm Si}$$)と炭素空孔($$V$$$$_{rm C}$$)の複合欠陥(C$$_{rm Si}$$-$$V$$$$_{rm C}$$)は、理論計算より$$p$$型中で非常に安定であると予測されているが、実験的にはこれまで$$n$$型や半絶縁基板のみでしか観測されていない。$$p$$型SiCのC$$_{rm Si}$$-V$$_{rm C}$$の存在を確認するために、$$p$$型六方晶(4$$H$$)SiCの電子常磁性共鳴(EPR)測定を行った。800$$^{circ}$$Cにて3MeV電子線を照射することで欠陥を導入した$$p$$型4$$H$$-SiCのEPR測定を行ったところ、これまで報告されていない$$HEI$$9と$$HEI$$10という新たなシグナルを観測した。$$HEI$$9及び$$HEI$$10シグナルの角度依存性を測定したところ、それぞれ$$C$$$$_{3v}$$及び$$C$$$$_{1h}$$対称を示すことが明らかとなった。さらに、$$^{13}$$Cの超微細相互作用を詳細に解析することで、$$HEI$$9及び$$HEI$$10は、それぞれ、正に帯電したc軸方向及びc面内のC$$_{rm Si}$$-$$V$$$$_{rm C}$$に起因するシグナルであることを同定した。

no abstracts in English

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