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JT-60U N-NBI加熱装置における3MW, 20秒入射

A 3MW, 20sec injection in the negative-ion based NBI system on JT-60U

岡野 文範; 粒子ビーム加熱システム開発グループ

Okano, Fuminori; NBI Heating Group

N-NBI加熱装置は、JT-60Uの高ベータ化プラズマの長時間維持等を目指し、設計値の10秒を上回る長パルス入射の開発を進めている。前回の運転サイクル(H17年度)の解析から、2台のイオン源の同時運転においても、加速電圧を360kV以下とすれば、電源容量的には最大30秒まで運転が可能であることが明らかとなった。このため今期は接地電極の熱負荷と加速電圧による絶縁破壊を考慮しながら、2台の同時運転による20秒入射を目指した。この結果、接地電極の熱負荷を冷却可能レベル(1MW以下)に抑えつつ、絶縁破壊を起こさない加速電圧320kVでパルス幅の伸長を図り、上イオン源で1.9MW,下イオン源で1.3MW,合計3.2MWの21秒入射に成功した。

no abstracts in English

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