SiC-based membrane for gas separation by EB curing of precursor polymers

前駆体高分子の電子線架橋によるガス分離用SiC薄膜合成

Wach, R. A.; Sugimoto, Masaki; Takano, Katsuyoshi; Yamamoto, Shunya; Yoshikawa, Masahito

耐蝕性,耐熱性に優れたSiCセラミック薄膜を、ポリカルボシラン(PCS)にポリビニルシラン(PVS)を20mass%混合した混合高分子材料を出発物質として、多孔質アルミナ基板上に作製した後、そのガス透過性を調べた。その結果PVSの混合により塑性が増大し成膜性が向上すること、また電子線により酸化されやすくなるため薄膜中の酸素濃度が増大することが明らかになった。この混合高分子材料から合成されたSiC薄膜の室温での水素透過率は10 $^{-10}$ mol/(secm $^{2}$ Pa)台、分離比は10以上を示しており、原子ネットワークが形成するナノホールによる分子ふるいで水素が分離されていることが確認できた。

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使用言語	:	English
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発表会議名	:	2nd International Symposium on Development of Silicon-based Functional Materials
開催年月	:	2006/11
開催都市	:	Kiryu
開催国	:	Japan
キーワード	:	no keyword

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使用施設	:	電子加速器
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登録番号 : BB20062485
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