中性子反射率による埋もれた水素・重水素ヘテロ界面構造の解析

Neutron reflectivity study on buried hetero-interfacial structure of H, D monolayer

朝岡秀人 ; 武田全康 ; 山崎大 ; 山崎竜也; 田口富嗣; 社本真一 ; 鳥飼直也*

Asaoka, Hidehito; Takeda, Masayasu; Yamazaki, Dai; Yamazaki, Tatsuya; Taguchi, Tomitsugu; Shamoto, Shinichi; Torikai, Naoya*

SrTiO $_{3}$ のテンプレートとなるSrやSrO薄膜と、Si基板との格子不整合の緩衝域として水素単原子によるバッファー層を挿入し、12%の格子不整合を克服した薄膜成長に成功した。本研究では、埋もれた微小領域の水素界面層を実測する目的で、水素界面層を重水素に置換し中性子に対するコントラストを変化させ、解析精度を上げた中性子反射率測定を行うとともに、多重内部反射赤外分光(MIR-FTIR)法を用いたその場観察による基板直上の埋もれた水素・重水素界面での原子振動・結合状態の精密評価や、透過型電子顕微鏡(TEM)による不整合界面の構造評価を行っている。これら複合的な手法による埋もれた界面解析の試みを紹介する。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	日本中性子科学会第6回年会
開催年月	:	2006/12
開催都市	:	水戸
開催国	:	日本
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受委託・共同研究相手機関	:	高エネルギー加速器研究機構

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