酸化タングステン膜の着色性能と水素含有量の関係

Relation between gaschromic coloration and hydrogen concentration in tungsten oxide thin films

Inoue, Aichi; Takano, Katsuyoshi; Yamamoto, Shunya; Nagata, Shinji*; Shikama, Tatsuo*

水素と反応して着色する酸化タングステン(WO $_{3}$ )膜による光学式水素センサーの開発を行うため、反応性マグネトロンスパッタ法を用いて酸化タングステン膜を作製し、その元素組成比と着色性能の関係を調べた。成膜雰囲気中のアルゴン分圧を150mPaに保ち、酸素分圧を90mPaまでの範囲で変化させながら金属タングステンターゲットをスパッタして作製した試料に対して、ラザフォード後方散乱法(RBS)及び反跳粒子検出法(ERDA)を用いて組成を調べた結果、膜の酸素組成比が増加するに伴って含有水素量は増加し、WO $_{3}$ 膜では最大約0.8H/Wまで水素を含有していることが明らかになった。また、石英基板上に同様な条件で堆積させた酸化タングステン膜表面に約15nmのパラジウムを堆積させた試料に対して着色性能を調べたところ、組成がH $_{0.8}$ WO $_{3}$ に近づくほど光の透過強度が低下する傾向にあり、イオンビーム分析の結果が裏付けられた。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	2007年(平成19年)春季第54回応用物理学関係連合講演会
開催年月	:	2007/03
開催都市	:	相模原
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

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使用施設	:	TIARA(イオン照射研究施設)
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受委託・共同研究相手機関	:	東北大学

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