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Gas separation SiC membrane developed from precursor polymers by radiation curing

放射線架橋によるセラミック前駆体高分子からのガス分離性薄膜の開発

Wach, R. A.; 杉本 雅樹; 吉川 正人

Wach, R. A.; Sugimoto, Masaki; Yoshikawa, Masahito

耐蝕性,耐熱性に優れたSiCセラミック薄膜を、ポリカルボシラン(PCS)にポリビニルシラン(PVS)を20mass%混合した混合高分子材料を出発物質とし、多孔質アルミナ基板上に作製した。その結果、PVSの混合により塑性が増大して成膜性が向上すること、また電子線照射により薄膜中の酸素濃度が増大することがわかった。この混合高分子材料から合成されたSiC薄膜の室温での水素透過率は10$$^{-10}$$ mol/(sec$$times$$m$$^{2}$$$$times$$Pa)台、分離比は10以上を示し、原子ネットワークが形成するナノホールによる分子ふるいで水素が分離されていることが確認できた。

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