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EPR study of electron-irradiated SiC; Structure determination of intrinsic defects in 4$$H$$-SiC

EPRによる電子線照射したSiCの研究; 4$$H$$-SiC中の真性欠陥の構造同定

磯谷 順一*; 梅田 享英*; 水落 憲和*; 片桐 雅之*; 大島 武; 森下 憲雄; 伊藤 久義

Isoya, Junichi*; Umeda, Takahide*; Mizuochi, Norikazu*; Katagiri, Masayuki*; Oshima, Takeshi; Morishita, Norio; Ito, Hisayoshi

六方晶炭化ケイ素(4$$H$$-SiC)中の真性欠陥の構造同定をElectron Paramagnetic Resonance(EPR)により行った。1又は2MeV電子線を室温$$sim$$800$$^{circ}$$Cの範囲で照射し多量の真性欠陥を生成した4$$H$$-SiCのEPR測定を行うことで、負に帯電したシリコン空孔(V$$_{Si}$$$$^{-}$$)、正に帯電したヘキサゴナルサイト及びキュービックサイトの炭素空孔(V$$_{C}$$$$^{+}$$(h)及びV$$_{C}$$$$^{-}$$(h))、中性のシリコン空孔と炭素空孔の複空孔((V$$_{C}$$V$$_{Si}$$)$$^{0}$$)及び負に帯電したシリコンサイトの炭素と炭素空孔ペア((C$$_{Si}$$V$$_{C}$$)$$^{-}$$)の同定に成功した。

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