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パルス化クラスターイオンビームを用いた高感度表面分析

Highly sensitive TOF mass spectroscopy for contaminant analysis using pulsed cluster ion beam

平田 浩一*; 小林 慶規*; 齋藤 勇一; 千葉 敦也; 阿達 正浩; 山田 圭介; 神谷 富裕; 鳴海 一雅

Hirata, Koichi*; Kobayashi, Yoshinori*; Saito, Yuichi; Chiba, Atsuya; Adachi, Masahiro; Yamada, Keisuke; Kamiya, Tomihiro; Narumi, Kazumasa

クラスターイオン照射では、複数の原子が同時に試料表面の狭い領域にエネルギーを付与するため、単原子イオン照射とは異なった照射効果が期待される。ここでは、クラスターイオンを1次イオンとして2次イオン質量分析を行うと、試料表面に存在する元素が高感度で分析できることを報告する。例えば、C$$_8$$$$^+$$クラスターイオン(0.5MeV/atom)照射によるNa$$^+$$2次イオン強度は、C$$_1$$$$^+$$単原子イオン(0.5MeV/atom)照射に比べて、入射原子1個あたり15倍から20倍程度にもなる。このような、2次イオン強度の上昇は、金属のみならず、半導体,高分子試料等を分析した場合でも観測された。

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