高電圧端子内重イオン入射装置の開発

Development of the heavy ion injector in the high voltage terminal

Matsuda, Makoto; Nakanoya, Takamitsu; Kutsukake, Kenichi; Hanashima, Susumu; Takeuchi, Suehiro

原子力機構タンデム加速器では高電圧端子内の入射装置に10GHzの永久磁石型電子サイクロトロン共鳴イオン源(ECRIS)が設置され、イオンビームの強度及びエネルギーの増強が行われている。このイオン源から引き出されるイオンビームを有効に利用するため、高電圧端子の低エネルギー側に設置する新たな入射装置を開発した。この配置では十分な磁場強度と分解能を有する180 $^{circ}$ 偏向電磁石をビーム分析に使用するので、質量電荷比の大きなイオンが利用でき、かつ加速管へ入射するビームの精度よい分離が可能である。新入射装置では質量電荷比の大きなXe $^{7+}$ (A/q20)イオンなども利用可能になったことで50MeVの低エネルギービームの加速が可能となり、50MeV300MeVの広範なエネルギー領域のビームが利用できる唯一の加速器となった。新たな入射装置の開発とその利用状況について報告する。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	Proceedings of 4th Annual Meeting of Particle Accelerator Society of Japan and 32nd Linear Accelerator Meeting in Japan (CD-ROM)
巻	:
号	:
ページ数	:	p.736 - 738
発行年月	:	2007/00
発表会議名	:	第4回日本加速器学会年会・第32回リニアック技術研究会
開催年月	:	2007/08
開催都市	:	和光
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

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使用施設	:	タンデム加速器
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登録番号 : BB20071817
抄録集掲載番号 : 36000140
論文投稿番号 : 3474

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