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高電圧端子内重イオン入射装置の開発

Development of the heavy ion injector in the high voltage terminal

松田 誠; 仲野谷 孝充; 沓掛 健一; 花島 進; 竹内 末広

Matsuda, Makoto; Nakanoya, Takamitsu; Kutsukake, Kenichi; Hanashima, Susumu; Takeuchi, Suehiro

原子力機構タンデム加速器では高電圧端子内の入射装置に10GHzの永久磁石型電子サイクロトロン共鳴イオン源(ECRIS)が設置され、イオンビームの強度及びエネルギーの増強が行われている。このイオン源から引き出されるイオンビームを有効に利用するため、高電圧端子の低エネルギー側に設置する新たな入射装置を開発した。この配置では十分な磁場強度と分解能を有する180$$^{circ}$$偏向電磁石をビーム分析に使用するので、質量電荷比の大きなイオンが利用でき、かつ加速管へ入射するビームの精度よい分離が可能である。新入射装置では質量電荷比の大きなXe$$^{7+}$$(A/q$$simeq$$20)イオンなども利用可能になったことで50MeVの低エネルギービームの加速が可能となり、50MeV$$sim$$300MeVの広範なエネルギー領域のビームが利用できる唯一の加速器となった。新たな入射装置の開発とその利用状況について報告する。

no abstracts in English

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