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酸化タングステンのガスクロミック着色・脱色挙動の温度依存性

Temperature dependence of colorarion and bleaching on gasochromic tungsten oxides

井上 愛知; 山本 春也; 永田 晋二*; 高野 勝昌; 吉川 正人; 四竈 樹男*

Inoue, Aichi; Yamamoto, Shunya; Nagata, Shinji*; Takano, Katsuyoshi; Yoshikawa, Masahito; Shikama, Tatsuo*

触媒を担持したWO$$_{3}$$が水素ガスと反応し着色する現象(ガスクロミズム)のメカニズムを解明するため、着色・脱色挙動の温度依存性を調べた。Pdを担持したWO$$_{3}$$膜を30$$sim$$300$$^{circ}$$Cの温度範囲で、窒素で1%に希釈した水素ガスに暴露した結果、温度によらず同程度まで着色することがわかった。これら着色させた試料を窒素雰囲気中で300$$^{circ}$$Cまで熱処理を行い脱色させたところ、脱色挙動は着色時の温度に依存することがわかった。着色温度275$$^{circ}$$C以上で着色させると、300$$^{circ}$$Cまでの熱処理による脱色は見られなかった。このことから、着色は250$$^{circ}$$C以下ではタングステンブロンズ(H$$_{X}$$WO$$_{3}$$)の形成が主な原因であり、275$$^{circ}$$C以上ではWO$$_{3}$$膜の還元によることが示唆された。

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