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Co/SiO$$_{2}$$多層膜光学素子の生成と評価

Developments of Co/SiO$$_{2}$$ multilayer optics

石野 雅彦; 小池 雅人; 兼平 美香*; 佐藤 二美*; 寺内 正己*; 佐野 一雄*; Heimann, P. A.*; Gullikson, E. M.*

Ishino, Masahiko; Koike, Masato; Kanehira, Mika*; Sato, Futami*; Terauchi, Masami*; Sano, Kazuo*; Heimann, P. A.*; Gullikson, E. M.*

ラミナー型ホログラフィック回折格子を基板として、その表面にCo/SiO$$_{2}$$多層膜をイオンビームスパッタリング法により成膜することで、Co/SiO$$_{2}$$多層膜回折格子を作製した。作製した多層膜回折格子の回折効率をX線回折装置と放射光施設で測定した結果、1.5-8keVの広いエネルギー範囲において10%以上の回折効率を示すことを確認した。特に4-6keVにおいては40%以上の回折効率を実現しており、6keVでの効率は47%であった。次にCo/SiO$$_{2}$$多層膜の耐熱性を評価するために、真空加熱炉による熱処理を100$$^{circ}$$Cから600$$^{circ}$$Cまでの温度で1時間行った。X線回折測定,透過型電子顕微鏡観察,軟X線反射率測定から多層膜構造と光学特性の変化を評価した結果、Co/SiO$$_{2}$$多層膜は400$$^{circ}$$Cまでの熱処理に対して熱処理前の構造と反射率を維持することを確認した。Co/SiO$$_{2}$$多層膜とSiO$$_{2}$$やSiC等の耐熱性基板とを組合せたCo/SiO$$_{2}$$多層膜光学素子は実用的な耐熱性を持つと考えられることから、高輝度光源での利用にも高い安定性(耐熱性)を備えた高効率光学素子として機能することが期待される。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

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巻

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号

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ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

第9回X線結像光学シンポジウム

開催年月

 :

2007/11

開催都市

 :

名古屋

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

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PDF

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使用施設

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広報プレスリリース

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東北大学

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