位相型ゾーンプレートによる軟X線サブミクロンビームの生成

Generation of the submicron X-ray beam by the Fresnel phase zone plate

錦野 将元; 山谷 寛; 助川 鋼太; 永島 圭介

Nishikino, Masaharu; Yamatani, Hiroshi; Sukegawa, Kota; Nagashima, Keisuke

光量子ビーム利用研究ユニットの高空間コヒーレント軟X線レーザーは、単色性・高輝度・短パルスという優れた特性を持ち、X線顕微鏡,X線スペックル計測やX線干渉計測などの応用研究への利用が期待されている。この高空間コヒーレント軟X線レーザーを位相型フレネルゾーンプレートにより集光し軟X線サブミクロンビームの生成を行った。ナイフエッジスキャン法を用いて生成したビーム径の計測を行った結果、集光径は500nm(半値)程度で回折限界(260nm)のほぼ2倍程度であることを確認した。このときの集光強度は約110W/cmと見積もられ、実験配置・X線レーザーの出力により約110W/cm程度まで集光強度を上げることができると考えられる。今後、この軟X線サブミクロンビームを利用した金属や生物細胞への局所照射やX線フーリエ変換ホログラフィ等の応用研究を計画している。本発表では、高空間コヒーレントX線レーザーの発生とその高コヒーレントX線レーザーの利用研究としてフレネルゾーンプレートを使用したサブミクロンX線ビームについて述べる。

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