化学処理法を用いた金属中ヘリウム量計測の開発

Absolute measurements of He in metals using chemical treatments

伊藤 慶文*; Batchuluun, C.*; 安田 啓介*; 石神 龍哉*; 遠藤 伸之*

Ito, Yoshifumi*; Batchuluun, C.*; Yasuda, Keisuke*; Ishigami, Ryoya*; Endo, Nobuyuki*

化学処理を伴うガスクロマトグラフィ・質量分析法(GC/MS法)を金属中に含まれるHe原子量計測のために適用した。He含有金属小片サンプルの作製には、200kVイオン注入装置を使用した。容積約36cc(又は約9cc)のH型反応管内の1気圧窒素雰囲気でHe含有Cu小片を0.5ccの20%硝酸水溶液に浸し溶解後、Heを含むガスを採取した。GC/MS装置でHeを分析した結果、金属に含まれるHe個数が10個から10個の範囲で、検出されたHe強度と注入したHe原子数の間には良い比例関係が示された。

GC/MS (Gas Chromatography/Mass Spectrometer) with the help of Chemical treatments has been applied to measure amount of helium (He) atoms in metals. Metal samples of cupper (Cu) contained He atoms were prepared using a 200kV ion implantation machine. The samples were solved in 0.5cc volume of 20% nitric acid in a H type reaction tube filled with nitrogen gases at 1 atmospheric pressure and He atoms in Cu metal were exhausted completely into the nitrogen gases. He analysis using GC/MS reveals that the metals contained 10 to 10 atoms of He. The He signal intensity and He ions implanted to the metals revealed good proportional relation.