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イオンビームを用いた麹菌(${it Aspergillus oryzae}$)遺伝子の選択的除去方法の検討

Method for the selective elimination of the ${it Aspergillus oryzae}$ genes using ion beams

豊島 快幸*; 赤川 巧*; 山崎 達雄*; 佐藤 勝也; 長谷 純宏; 鳴海 一成

Toyoshima, Yoshiyuki*; Akagawa, Takumi*; Yamazaki, Tatsuo*; Sato, Katsuya; Hase, Yoshihiro; Narumi, Issei

イオンビーム照射は、多くのDNA2本鎖切断を生じ、遺伝子の大規模な欠損を誘発することが知られており、突然変異誘発方法として有用な技術である。そこで、醸造産業やタンパク質生産の宿主として重要である麹菌へのイオンビーム照射の影響を観察し、特定の遺伝子を選択的に除去する方法を検討した。麹菌分生子にイオンビーム($$^{12}$$C$$^{5+}$$, 220MeV)を300$$sim$$700Gy照射し、セレン酸耐性の原因遺伝子である${it sB}$及び${it sC}$遺伝子の欠損変異率を測定した。その結果、欠損変異率が最大となった照射線量は400Gyであった。そこで、${it sC}$遺伝子をマーカーとして${it amyR}$領域に挿入した株にイオンビームを照射し、マーカー領域が除去された変異株のスクリーニングを試みた。得られた変異株についてサザン解析を行った結果、マーカー領域が完全に除去された変異株が見いだされた。以上より、イオンビーム照射により選択的にマーカーを含む麹菌遺伝子領域を除去することが可能であることが明らかとなった。

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