先進的加工技術を用いた平面デバイスの開発

Development of planar devices using advanced fabrication

伊藤 直樹*; 間瀬 淳*; 近木 祐一郎*; 瀬古 典明; 玉田 正男; 松村 知宏*; 嶋津 博士*; 坂田 栄二*

Ito, Naoki*; Mase, Atsushi*; Kogi, Yuichiro*; Seko, Noriaki; Tamada, Masao; Matsumura, Tomohiro*; Shimazu, Hiroshi*; Sakata, Eiji*

マイクロ波・ミリ波計測システムの高性能化やミリ波車載レーダーの普及のために、効率の良い小型平面デバイスの開発が不可欠である。アンテナ基材として、低損失材料であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を基材として使用することが不可欠であるため、この材料の表面を放射線グラフト重合技術により改質した。その結果、未処理のPTFEと銅箔との接着強度が3.9N/cmであるのに対し、約16N/cmにまで付着力を向上することができた。グラフト処理前後における比誘電率も大きく変化しないことから、PTFEの有する電気的特性を保持した状態で表面の改質に成功したと言える。

no abstracts in English