顕微X線吸収分光法によるフタロシアニン薄膜のナノ構造と配向性の観察

Observation on nano-structures and molecular orientations for phthalocyanine thin films by X-ray absorption fine structure microscopy

馬場 祐治  ; 関口 哲弘  ; 下山 巖   ; 本田 充紀   ; 平尾 法恵*; Deng, J.; 成田 あゆみ

Baba, Yuji; Sekiguchi, Tetsuhiro; Shimoyama, Iwao; Honda, Mitsunori; Hirao, Norie*; Deng, J.; Narita, Ayumi

種々の固体表面上に蒸着したシリコンフタロシアニン化合物薄膜について、ナノメートルスケールの電子構造と配向性を、放射光を用いた顕微X線吸収分光法により観察した。その結果、室温では基板により分子の配向が異なることを見いだした。また、加熱により分子が表面を拡散する様子をナノメートルスケールで観察するとともに、拡散前後に分子の配向が変化することを明らかにした。

Electronic structures and molecular orientations of thin films of silicon phthalocyanine dichloride have been observed by X-ray absorption fine structure microscopy using soft X-rays from synchrotron light source. It was found that the molecular orientations of deposited layers at room temperature are different depending on the substrates. We have also observed the surface diffusion of the molecules upon heating at nanometer scale, and clarified that the molecular orientation at room temperature changes at high temperature.