Stereodynamics in dissociative adsorption of NO on Si(111)

Si(111)表面上でのNO分子の解離性吸着における立体ダイナミクス

橋之口 道宏*; 岡田 美智雄*; 伊藤 裕規*; 笠井 俊夫*; 盛谷 浩右*; 寺岡 有殿

Hashinokuchi, Michihiro*; Okada, Michio*; Ito, Hironori*; Kasai, Toshio*; Moritani, Kosuke*; Teraoka, Yuden

X線光電子分光法を用いてSi(111)-(77)表面でのNO分子の解離性吸着過程に対する立体効果の表面温度依存性について研究した結果を報告する。ここでのデータは58meVの入射エネルギーではN端衝突の方がO端衝突よりも反応確率が大きいことを示している。さらに、この立体効果は表面温度と被覆率に非常に敏感である。これらの事実はNO分子が狭い前躯状態に過渡的にトラップされることがSi(111)-(77)表面でのNOの分解の初期段階で重要な役割を担っていることを示唆している。

We report results of studies on surface-temperature dependence of steric effects in dissociative adsorption processes of NO molecules on Si(111)-(77) surface by means of X-ray photoemission spectroscopy. Data presented here show that the reactive sticking probability for N-end collisions is larger than that in O-end collisions at an incident energy of 58 meV. Furthermore, this steric preference is quite sensitive to the surface temperature and the surface coverage. These facts reveal that transient surface trapping of NO molecules in a shallow precursor state plays a key role in the initial step of the NO decomposition on the Si(111)-(77) surface.