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多結晶酸化タングステン膜の作製及び水素による着色

Production and gasochromic coloration of polycrystalline WO$$_{3}$$ films

井上 愛知; 山本 春也; 且井 宏和*; 永田 晋二*; 吉川 正人; 四竈 樹男*

Inoue, Aichi; Yamamoto, Shunya; Katsui, Hirokazu*; Nagata, Shinji*; Yoshikawa, Masahito; Shikama, Tatsuo*

多結晶WO$$_{3}$$膜中への水素浸入による着色に伴う、結晶構造変化をX線回折法により調べた。着色を示す多結晶WO$$_{3}$$膜を作製するため、金属タングステンを大気中で熱酸化させてSiO$$_{2}$$ガラス基板上にバッファ層を形成させた後、その上に約700nmの柱状構造のWO$$_{3}$$膜を形成させた。バッファ層の厚さを5$$sim$$10nm、熱酸化温度を500$$^{circ}$$C以上に制御すると、単斜晶WO$$_{3}$$の(002), (020), (200)に由来する3つのX線回折ピークがほぼ同等の強度で観測できる多結晶WO$$_{3}$$膜が得られた。この膜表面に、水素解離触媒であるパラジウムを15nm堆積させ、水素に曝露して着色させると、単斜晶のピークが消失し、正方晶系のタングステンブロンズ(H$$_{0.23}$$WO$$_{3}$$, JCPDS card No. 42-1261)に由来するX線回折ピークへと変化した。このことから多結晶WO$$_{3}$$膜内に水素原子が侵入してタングステンブロンズが形成されたときのタングステン原子価数の変化が着色メカニズムの主原因であると示唆された。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

日本金属学会2008年春期(第142回)大会

開催年月

 :

2008/03

開催都市

 :

東京

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

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PDF

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論文URL

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研究データの公開先DOI

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使用施設

 :

TIARA(イオン照射研究施設)

広報プレスリリース

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論文解説記事
(成果普及情報誌)

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受委託・共同研究相手機関

 :

東北大学

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