中性子反射率による磁性多層膜の磁気構造評価

Magnetic structure analysis of magnetic multilayer using neutron reflectometry

平野 辰巳*; 武田 全康  

Hirano, Tatsumi*; Takeda, Masayasu

磁気デバイスの性能は、その基盤となる磁気多層膜の界面磁気構造と密接に関連しているため、磁気デバイスの高性能化のためには界面磁気構造の評価が重要である。この講演では、界面磁気構造の評価手段である偏極中性子反射率法の解説とその将来像について発表する。

The characterization of a magnetic interface structure in magnetic multilayer is important for producing good magnetic devices because the device properties strongly depend on the structure. In this report we review a polarized neutron reflectometry to analyze the magnetic interface structure and also mention a future prospect of a neutron experiment.