multilayers for use in the soft X-ray region多層膜の耐熱性評価Ishino, Masahiko; Koike, Masato; Sano, Kazuo*
Co/SiO多層膜は1
8keVのX線領域で高い反射率を有することから、X線反射鏡や多層膜回折格子などのX線光学素子への応用が進められている。光学素子を放射光のような高い熱負荷を伴う高輝度X線光源で使用する場合、又は実験装置のベーキング処理を考えた場合、光学素子には高い効率だけでなく高い耐熱性も求められる。そこで、Co/SiO多層膜の耐熱性評価を目的として、Si基板上にイオンビームスパッタリング法により成膜したCo/SiO多層膜に対して600度までの真空加熱処理を行い、熱処理温度に対する多層膜構造と光学的特性の変化を評価した。X線回折測定による構造変化の測定と放射光施設を利用した軟X線反射率測定から、Co/SiO多層膜は400度までの熱処理に対して熱処理前と同様の多層膜構造と軟X線反射率を維持しており、十分実用的な耐熱性を持つことを確認した。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | |
号 |
: | 10 |
ページ数 |
: | p.131 - 137 |
発行年月 |
: | 2008/05 |
キーワード |
: | no keyword |
論文URL |
: |
|
|---|---|---|
論文解説記事 |
: |
Access |
: |
- Accesses |
|---|---|---|
Altmetrics |
: |
[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.
