PLCとVEEによるECRイオン源の制御系の構築

A Control system of an ECR ion source consisting of PLC and VEE

吉田 健一; 奈良 孝幸; 齋藤 勇一; 横田 渉

Yoshida, Kenichi; Nara, Takayuki; Saito, Yuichi; Yokota, Wataru

TIARAのAVFサイクロトロンにおけるマイクロビームの迅速な形成と安定供給を実現するために、平成15年より全永久磁石型ECRイオン源(LECR)の開発を行っており、平成19年度にサイクロトロンに接続して制御系を構築した。サイクロトロンでは、通信機能のあるコントローラーで機器ごとに制御し、これを上位計算機のアプリケーションソフトInTouch(Inverse Wonderware, Co.)により操作しているが、現在のInTouchは既に負荷が高く、LECRの制御系を組み込むとシステム全体に悪影響を及ぼす危険性がある。そこで、独立したLECRの制御系が必要となった。今回製作したLECRの制御系は、各機器のインターロックをPLC(Programmable Logic Controller)で構築し、アプリケーションソフトにはInTouchに比べて安価で、プログラム構築が容易なVEE(Agilent Technologies, Ltd.)を使用した。本報告では、本制御系のPLCとVEEのプログラムについて報告する。

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