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中性子反射率による磁性多層膜の磁気構造評価

Magnetic structure analysis of magnetic multilayers using neutron reflectometry

平野 辰巳*; 武田 全康  

Hirano, Tatsumi*; Takeda, Masayasu

多層膜構造を持つ高性能な磁気デバイスを作るうえで、界面の磁気構造がデバイスの最終性能に与える影響が大きいので、その構造情報を得ることは重要である。この解説記事では、そのような界面の磁気構造情報を解析するための偏極中性子反射率法について解説するとともに、中性子反射率法を用いた磁気デバイスの開発研究の将来像に触れる。

The characterization of a magnetic interface structure in magnetic multilayer is important for producing good magnetic devices because the device properties strongly depend on the structure. In this report we review a polarized neutron reflectometry to analyze the magnetic interface structure and also mention a future prospect of a neutron experiment.

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