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Two dimensional radiation hydrodynamic simulation for extreme ultra-violet emission from laser-produced tin plasmas

レーザー生成スズプラズマからのEUV放射の2次元輻射流体シミュレーション

砂原 淳*; 佐々木 明; 西原 功修*

Sunahara, Atsushi*; Sasaki, Akira; Nishihara, Katsunobu*

次世代半導体リソグラフィ光源として用いる、レーザープラズマEUV光源の1次元及び2次元輻射流体シミュレーションを行い、最近の実験結果との比較によるベンチマークを行った。Snプラズマについての計算結果は、実験の温度,密度プロファイル,変換効率,X線スペクトルを再現した。プラズマはオパシティが大きく、輻射の自己吸収の効果を考慮することが重要なことがわかった。

We simulated Extreme Ultra-Violet (EUV) emission from laser-produced tin plasmas for the lithography of semi-conductor, using one- and two- dimensional radiation hydrodynamic simulation codes, and benchmarked the simulations by comparison with recent experiments. We successfully reproduced the measured conversion efficiency, X-ray spectra, and plasma density profiles in the experimental conditions. We found self-absorption of radiation due to the large opacity plays an important role in emission.

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