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Longitudinal painting studies in the J-PARC RCS

J-PARC RCSの縦方向ペインティングの研究

田村 文彦   ; 山本 昌亘   ; 吉井 正人*; 大森 千広*; 野村 昌弘  ; Schnase, A.; 戸田 信*; 鈴木 寛光; 島田 太平 ; 原 圭吾*; 長谷川 豪志*

Tamura, Fumihiko; Yamamoto, Masanobu; Yoshii, Masahito*; Omori, Chihiro*; Nomura, Masahiro; Schnase, A.; Toda, Makoto*; Suzuki, Hiromitsu; Shimada, Taihei; Hara, Keigo*; Hasegawa, Katsushi*

J-PARC RCSではスペースチャージチューンシフトを軽減するようバンチングファクターを増大するため、モーメンタムオフセット入射及び二倍高調波の縦方向ペインティング手法を採用している。MA空胴でのデュアルハーモニック運転により、大振幅の二倍高調波を追加空胴なしに発生することができる。縦方向ペインティングの結果及び、高いビームパワーでのビームのふるまいについて発表する。

In the J-PARC RCS, we employ the longitudinal painting methods, the momentum offset injection method and applying the second harmonic RF voltages, to increase the bunching factor so that the space-charge tune shift is reduced. By the dual-harmonic operation with wide-band MA loaded cavities, in which each single cavity is driven by a superposition of the fundamental and the second harmonic RF signals, we can generate a large amplitude second harmonic RF voltage without extra cavities for the second harmonic RF. We present the results of the beam tests for the longitudinal painting in the J-PARC RCS. Also, we present the beam behavior at very high beam power.

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