Inelastic scattering processes in reflection high-energy positron diffraction from a Si(111)-77 surface

Si(111)-77表面からの反射高速陽電子回折における非弾性散乱過程

深谷 有喜   ; 河裾 厚男; 一宮 彪彦

Fukaya, Yuki; Kawasuso, Atsuo; Ichimiya, Ayahiko

結晶表面での陽電子ビームの全反射回折時における非弾性散乱過程を調べるために、反射高速陽電子回折を用いてSi(111)-77表面からの絶対反射率,鏡面反射スポットのプロファイル,エネルギー損失スペクトルを測定した。陽電子の絶対反射率は、電子のものに比べると1桁以上大きく、全反射回折時においても100%以下であることがわかった。さらに陽電子回折における鏡面反射スポットは、入射ビームに比べて広がっていることを見いだした。エネルギー損失スペクトルの測定から、電子に比べると、全反射した陽電子は表面プラズモンを多数励起することがわかった。絶対反射率の減少と鏡面反射スポットの広がりは、陽電子による表面プラズモンの多重励起の効果によって説明できることがわかった。

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