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多糖類水溶液の放射線誘起ラジカルの反応挙動,3; 照射条件によるカルボキシメチルセルロースラジカルの減衰変化

Reaction behavior of radiatio-induced radicals in polysaccharide aqueous solution, 3; Decay change of carboxymethyl cellulose radical by irradiation condition

佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*

Saiki, Seiichi; Nagasawa, Naotsugu; Hiroki, Akihiro; Morishita, Norio; Tamada, Masao; Kudo, Hisaaki*; Katsumura, Yosuke*

カルボキシメチルセルロース(CMC)等の多糖類誘導体は、高濃度水溶液条件下において放射線架橋反応を優位に起こすことが知られている。本研究では、その放射線誘起反応機構について明らかにするため、架橋反応の起因となるOHラジカルとの反応により生成するCMCラジカルのラジカルサイト及び減衰挙動についてESR法により検討した。亜酸化窒素飽和下においたCMC水溶液に対し電子線照射を行い、残存する長寿命ラジカルを6位もしくは2・3位に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカルと同定した。また、時間経過に連れてスペクトル形状が変化しないことから、各位に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカルの割合は変化しないことを確認した。さらに、長寿命CMCラジカルの減衰挙動は指数関数的であり、かつCMC濃度依存性を有することから、CMC高分子間におけるラジカル移動であると推測された。

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