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Uniformly dimerized C60 film prepared by deposition under ${it in situ}$ photoirradiation

その場光照射下での蒸着による均質的C60ダイマー薄膜の生成

谷本 久典*; 山田 海成*; 水林 博*; 松本 吉弘; 楢本 洋*; 境 誠司

Tanimoto, Hisanori*; Yamada, Kaina*; Mizubayashi, Hiroshi*; Matsumoto, Yoshihiro; Naramoto, Hiroshi*; Sakai, Seiji

その場光照射により100-480nm厚のC60薄膜をSiリード上に蒸着した。同リード試料を用いた擬弾性測定において、C60結晶で観測されるC60分子の回転運動に対応する内部摩擦ピークが観測されないことが明らかになった。さらに、同試料のヤング率はC60結晶と比較して1.5倍ほど大きいことがわかった。X線回折測定において、C60結晶と比較して3%程度の格子収縮が観測され、立方格子からの局所歪みの存在も示唆された。Raman分光において、同試料のスペクトルはC60ダイマーのものと一致することがわかった。これら光照射薄膜の特性は523Kの焼鈍により消失し、元のC60結晶の状態に回復することがわかった。以上の結果から、その場光照射による均質なC60ダイマー相が成長することが明らかになった。

C60 films with thicknesses of 100-480 nm were deposited on Si reed substrates under in situ photoirradiation. In anelasticity measurements, no internal friction peaks associated with rotational motions of the C60 molecules were observed, and Young's modulus was 1.5 times larger than that of a pristine C60 material. X-ray diffraction patterns suggested that the face-centered cubic lattice was contracted by about 3% and locally distorted from the pristine C60 material. Raman spectra very similar to those reported for dimerized C60 were also obtained. These characteristics recovered to those of the pristine C60 materials after annealing the C60 films at 523 K. These results indicate uniform dimerization in C60 films deposited under ${it in situ}$ photoirradiation.

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パーセンタイル:30.12

分野:Physics, Applied

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