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放射免疫療法のための高純度無担体$$^{177}$$Luの製造法の開発

Production of high-purity no-carrier-added $$^{177}$$Lu for radioimmunotherapy

渡辺 智; 橋本 和幸; 渡邉 茂樹; 飯田 靖彦*; 花岡 宏史*; 遠藤 啓吾*; 石岡 典子

Watanabe, Satoshi; Hashimoto, Kazuyuki; Watanabe, Shigeki; Iida, Yasuhiko*; Hanaoka, Hirofumi*; Endo, Keigo*; Ishioka, Noriko

われわれは、がんに特異的に濃集する$$^{177}$$Lu-抗体によるがん治療を目指し、純度の高い$$^{177}$$Lu原料の開発及びがん治療薬としての評価を行っている。本研究では純度の高い$$^{177}$$Lu原料の開発に注目し、$$^{177}$$Lu-抗体の合成に必要な高純度でなおかつ、Lu担体を含まない$$^{177}$$Luの製造法の開発を行った。$$^{176}$$Yb(n, $$gamma$$) $$^{177}$$Yb$$rightarrow$$$$^{177}$$Lu反応で製造した$$^{177}$$Luを逆相シリカゲルカラムでYbターゲットから分離した。このとき溶離液中の不純物元素をあらかじめ取り除くために陽イオン交換カラム及びキレート交換カラムで0.25M 2-ヒドロキシイソ酪酸/0.1M 1-オクタンスルホン酸ナトリウムを精製した。さらに分離後に残った不純物元素を取り除くために陰イオン交換カラムを用いた。製造した$$^{177}$$Luを用いて$$^{177}$$Lu-抗体の標識実験を行った結果、標識率は80%以上であることがわかり、抗体への標識が可能な高純度無担体$$^{177}$$Luの製造が可能となった。

no abstracts in English

発表言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

第4回高崎量子応用研究シンポジウム

開催年月

 :

2009/10

開催都市

 :

高崎

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

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PDF

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使用施設

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群馬大学

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