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共鳴非弾性X線散乱におけるdd励起の偏光依存性

Polarization dependence of dd excitations in resonant inelastic X-ray scattering

石井 賢司; 吉田 雅洋; Jarrige, I.; 池内 和彦*; 村上 洋一*; 水木 純一郎; 石原 純夫*

Ishii, Kenji; Yoshida, Masahiro; Jarrige, I.; Ikeuchi, Kazuhiko*; Murakami, Yoichi*; Mizuki, Junichiro; Ishihara, Sumio*

共鳴非弾性X線散乱(Resonant Inelastic X-ray Scattering)実験を行ううえで放射光の持つ、高輝度,エネルギー可変という特長は不可欠であるが、もう一つの特長である偏光については、これまでの研究では積極的に利用しているとは言い難く、また理解も進んでいない。共鳴X線回折において、偏光解析を行うことで秩序パラメーターの対称性を決定できるのと同様に、RIXSでの偏光依存性は励起の対称性と密接な関係があると期待できる。われわれは、その関係を調べることを目的として、SPring-8のBL11XUに設置した非弾性散乱分光器に散乱光の偏光解析装置を導入した。また、最初の偏光依存性の研究対象として軌道秩序の典型物質であるKCuF$$_3$$のdd励起を選び、銅のK吸収端でのRIXS実験を行った。測定の結果、KCuF$$_3$$の2つdd励起の偏光依存性に顕著な違いが存在することを発見した。講演では、偏光解析装置の概要とdd励起の系統的な測定結果について報告を行う。

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