水溶液中におけるカルボキシメチルキトサンラジカルのESR測定

ESR measurement of carboxymethyl chitosan radicals in an aqueous solution

佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*

Saiki, Seiichi; Nagasawa, Naotsugu; Hiroki, Akihiro; Morishita, Norio; Tamada, Masao; Kudo, Hisaaki*; Katsumura, Yosuke*

従来多糖類は放射線照射により低分子量化を伴う分解反応を起こすが、カルボキシメチル化した多糖類を高濃度水溶液条件下において放射線照射を行うと、架橋反応が優位に起き、ゲル化する。特にカルボキシメチルキトサンの場合、キトサンが本来有する抗菌性や金属吸着能を備えた機能性ハイドロゲルとなる。本研究では、放射線架橋の一因となるOHラジカルとの反応により生成するカルボキシメチルキトサンラジカルについて、フローシステムを用いたESR測定により検討を行った。測定により得られたESRスペクトルは、超微細結合定数や重ね合わせシミュレーションによる検討から、TripletDoubletとDoubletの重ね合わせと解釈され、それぞれ6位炭素に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカル、及び3位炭素に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカルと同定された。

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