重イオン照射による傾斜機能材料の創製

Development of functionally-graded materials using high energy heavy ion beam

大島明博*; 白木文也*; 高澤侑也*; 藤田創*; 吉川妙子*; 巽貴浩*; 坪倉英裕*; 高橋朋宏*; 五輪智子*; 坂上和之*; 岡壽崇 ; 工藤久明*; 村上健*; 鷲尾方一*; 濱義昌*

Oshima, Akihiro*; Shiraki, Fumiya*; Takasawa, Yuya*; Fujita, Hajime*; Yoshikawa, Taeko*; Tatsumi, Takahiro*; Tsubokura, Hidehiro*; Takahashi, Tomohiro*; Gowa, Tomoko*; Sakaue, Kazuyuki*; Oka, Toshitaka; Kudo, Hisaaki*; Murakami, Takeshi*; Washio, Masakazu*; Hama, Yoshimasa*

イオン照射時のブラッグピーク付近での化学反応の局所性を利用して、傾斜機能性を有するフッ素系高分子材料の創製を検討した。フッ素系高分子材料にXe $^{54+}$ イオン照射を真空・室温下で行い、ブラッグカーブに沿った傾斜的なラジカル生成を誘起した。照射後、スチレンモノマーをグラフト反応させ、スルホン化処理することで親水基の傾斜的な分布を有する機能性材料の創製を検討した。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	第53回放射線化学討論会
開催年月	:	2010/09
開催都市	:	名古屋
開催国	:	日本
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登録番号 : BB20102042
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