希薄プラスミドDNA水溶液への線照射; 放射線誘起損傷の抗酸化剤エダラボンによる化学回復

-ray irradiation to dilute aqueous solution of plasmid DNA; Chemical repair of radiation-induced lesions on DNA by antioxidant edaravone

端 邦樹 ; 漆原 あゆみ; 山下 真一; 鹿園 直哉; 横谷 明徳; 勝村 庸介*

Hata, Kuniki; Urushibara, Ayumi; Yamashita, Shinichi; Shikazono, Naoya; Yokoya, Akinari; Katsumura, Yosuke*

一般的に、抗酸化物質に期待される照射直後の防護メカニズムはラジカルを除去する化学的プロセスであり、これまでにOHラジカルの捕捉やdGMPラジカルに対する還元作用(化学回復)が報告されている。本研究では、放射線DNA損傷のエダラボンによる化学回復の存在を証明することを目的とした。直接効果が無視できるほどの希薄水溶液の系を考えた場合、エダラボンのOHラジカル捕捉が唯一の防護プロセスであるならば、OHラジカルにより生成する一本鎖切断(SSB)と塩基損傷の収率は同じ比率で抑制される。もし化学回復が起こると、SSBに対する塩基損傷収率の比率は、DNAの立体構造とエダラボンの可触性の兼ね合いから変化する可能性がある。そこで、エダラボン添加によるDNA上のSSBと塩基損傷の比を調べた。エダラボンを添加した10ng/lの希薄プラスミドDNA水溶液に対して線照射した後に、塩基損傷を酵素処理によって検出し電気泳動により各損傷を定量した。抗酸化剤添加に伴う各損傷の生成パターンの変化から抗酸化剤による化学回復の有無について調べた。測定の結果、塩基脱離部位(APサイト)と呼ばれる損傷に対してエダラボンが選択的に化学回復するということが示唆された。

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