七フッ化ヨウ素ガスを用いた系統除染に関する基礎的研究,2; ウラン化合物付着メカニズム解明のための分子間ポテンシャル評価

Basic study on system decontamination by iodine heptafluoride, 2; Formulate of potential model for deposition mechanism of uranium compound

秦 はるひ   ; 横山 薫; 杉杖 典岳; 百武 徹*; 武藤 明徳*; 笹倉 万里子*; 箕輪 弘嗣*; 鈴木 和彦*

Hata, Haruhi; Yokoyama, Kaoru; Sugitsue, Noritake; Hyakutake, Toru*; Muto, Akinori*; Sasakura, Mariko*; Minowa, Hirotsugu*; Suzuki, Kazuhiko*

七フッ化ヨウ素を用いた除染のメカニズムを分子レベルで解明するための最初のステップとして、六フッ化ウランと金属(鉄)との物理吸着及び化学反応の可能性、六フッ化ウランと四フッ化ウラン(固体)との物理吸着及び化学反応の可能性について検討を行うため、六フッ化ウランの分子間、六フッ化ウランと鉄、六フッ化ウランと四フッ化ウラン(固体)間の分子間ポテンシャルを分子軌道法により評価し、このデータをもとに六フッ化ウランの付着メカニズムについて推定した結果を報告する。

As a first step to elucidate the molecular mechanism of decontamination systems for iodine heptafluoride, uranium hexafluoride and the metal (iron), the possibility of physical adsorption and chemical reactions with uranium hexafluoride and uranium tetrafluoride (solid), we investigate the possibility of physical adsorption and chemical reactions of this. Therefore, the intermolecular of uranium hexafluorides, iron and uranium hexafluoride, uranium tetrafluoride and uranium hexafluoride (solid) and evaluated by molecular orbital method to the intermolecular potential between, based on this data, MD law adhesion mechanism was estimated by uranium hexafluoride.