高強度レーザーと薄膜ターゲットの相互作用による高速電子の計測

Measurement of fast electron by interaction between high intense laser and thin film target

谷本 壮; 西内 満美子; 金崎 真聡; Pirozhkov, A. S.; 反保 元伸; 余語 覚文; 小倉 浩一; 堀 利彦; 匂坂 明人; 福田 祐仁; 榊 泰直; 近藤 公伯; 河西 俊一; 羽原 英明*; 田中 和夫*

Tanimoto, Tsuyoshi; Nishiuchi, Mamiko; Kanasaki, Masato; Pirozhkov, A. S.; Tampo, Motonobu; Yogo, Akifumi; Ogura, Koichi; Hori, Toshihiko; Sagisaka, Akito; Fukuda, Yuji; Sakaki, Hironao; Kondo, Kiminori; Kawanishi, Shunichi; Habara, Hideaki*; Tanaka, Kazuo*

高エネルギーイオンの生成には、さまざまな工夫が考えられており、その手法の一つとしてターゲットに照射するレーザーの照射強度の向上がある。それは、高エネルギーイオンの生成をTarget Normal Sheath Accelerationで仮定した場合、イオンの最大エネルギーは、電子温度の上昇とともに大きくなり、電子温度はレーザー強度が高くなるにつれて上昇する。このことから、レーザー強度の高強度化は、電子温度を上げて、高エネルギーイオンの生成へとつながる。原子力機構では、これまでに行われた実験における集光強度を大幅に引き上げるためにJ-KARENレーザーの高強度化が行われている。この高度化による集光強度(既存の集光光学系を用いた場合の集光強度)は、[W ]に達すると期待している。このレーザー強度において、高速電子の電子温度はポンデロモーティブスケーリングで電子温度を仮定した場合、10[MeV]に達し、数十[MeV]の高エネルギーイオンが期待される。今回、高度化されたJ-KARENレーザーを用い、薄膜ターゲットとの相互作用によって発生する高速電子の計測を行ったのでそれについて報告する。

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