-Co化合物/ Ni積層薄膜の界面磁気状態分光-Co / Ni bilayer structure using X-ray magnetic circular dichroism analysis松本 吉弘; 圓谷 志郎; 島田 敏宏*; 楢本 洋*; 三谷 誠司*; 高梨 弘毅; 横山 利彦*; 境 誠司
Matsumoto, Yoshihiro; Entani, Shiro; Shimada, Toshihiro*; Naramoto, Hiroshi*; Mitani, Seiji*; Takanashi, Koki; Yokoyama, Toshihiko*; Sakai, Seiji
最近の分光研究から、C-Co化合物中のCo原子に局在dスピンの存在が明らかとなり、同局在スピンの磁化率がトンネル磁気抵抗効果の大きさに影響を及ぼすことが示唆されている。一方、素子特性の解析から、磁気抵抗率の磁場依存性は温度によらずCo結晶粒の磁気応答と対応する振る舞いを取ることが示されている。これら複雑な磁気応答性の原因を明らかにするためには、特に、C-Co化合物/Co結晶粒界面近傍のスピン状態の理解が重要であると推察された。そこで、本研究ではC-Co化合物/Co結晶粒界面のモデル構造として、Ni(111)上に成膜したC-Co化合物についてX線磁気円二色性測定による磁気状態分光を行った。
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発表言語 |
: | Japanese |
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: | 2010/09 |
開催都市 |
: | 長崎 |
開催国 |
: | 日本 |
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: | no keyword |
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