七フッ化ヨウ素ガスを用いた系統除染に関する基礎的研究,3; ウラン化合物付着メカニズム解明のための活性化エネルギー評価

Basic study on system decontamination by iodine heptafluoride, 3; Formulate of activation energy for deposition mechanism of Uranium compound

横山薫; 秦はるひ ; 高橋信雄; 杉杖典岳; 百武徹*; 笹倉万里子*; 箕輪弘嗣*

Yokoyama, Kaoru; Hata, Haruhi; Takahashi, Nobuo; Sugitsue, Noritake; Hyakutake, Toru*; Sasakura, Mariko*; Minowa, Hirotsugu*

七フッ化ヨウ素(IF $_{7}$ )を用いた系統除染に関する分子レベルでの基礎的研究として、UF $_{4}$ が吸着した表面に対してUF $_{6}$ が入射した際にUF $_{6}$ が壁面で化学反応を行うための活性化エネルギーの解析を、分子動力学法(MD法)を用いて行った。

Fundamental study in the molecular level about the system decontamination using iodine heptafluoride was performed. When UF $_{6}$ entered to the surface to which UF $_{4}$ stuck, activation energy for UF $_{6}$ to perform a chemical reaction on the surface of a wall was analyzed. The molecular dynamics method was used for calculation.

使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	日本原子力学会2012年春の年会
開催年月	:	2012/03
開催都市	:	福井
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

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