酸化グラフェン還元過程のリアルタイムXPS観察; ヒドラジン処理効果

Real-time XPS study of reduction of graphene oxide; Effect of hydrazine treatment

渡辺大輝*; 小川修一*; 山口尚人*; 穂積英彬*; 江田剛輝*; Mattevi, C.*; 吉越章隆 ; 石塚眞治*; 寺岡有殿; 山田貴壽*; Chhowalla, M.*; 高桑雄二*

Watanabe, Daiki*; Ogawa, Shuichi*; Yamaguchi, Hisato*; Hozumi, Hideaki*; Eda, Goki*; Mattevi, C.*; Yoshigoe, Akitaka; Ishizuka, Shinji*; Teraoka, Yuden; Yamada, Takatoshi*; Chhowalla, M.*; Takakuwa, Yuji*

本研究ではH $_{4}$ N $_{2}$ 処理による酸化グラフェンの化学結合状態と電子状態の変化を調べるため、酸化グラフェンンの加熱還元過程のリアルタイム光電子分光観察を行った。800 $^{circ}$ Cに加熱後の酸化グラフェンのC1s光電子スペクトルから、H $_{4}$ N $_{2}$ 処理した酸化グラフェンはsp $^{3}$ に起因するアモルファス成分並びに点欠陥が著しく減少していることがわかった。酸化物もH $_{4}$ N $_{2}$ 処理によって減少することが明らかとなった。以上よりH $_{4}$ N $_{2}$ 処理によって酸化グラフェンの抵抗率や透過率が改善するのは酸化物が減少するだけでなく、点欠陥やアモルファスも低減するためとわかった。

no abstracts in English

使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:
巻	:
号	:
ページ数	:
発行年月	:
発表会議名	:	2012年(平成24年)春季第59回応用物理学関係連合講演会
開催年月	:	2012/03
開催都市	:	東京
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:
研究データの公開先DOI	:
使用施設	:	SPring-8(大型放射光施設)
広報プレスリリース	:
論文解説記事 (成果普及情報誌)	:
受委託・共同研究相手機関	:	東北大学

Access	:	- Accesses
Web of Science® Times Cited Count	:	被引用回数：評価・統計等のため最新の被引用回数を確認したい場合は、直接Web of Science®をご確認ください。 http://www.webofknowledge.com/wos
InCites™	:
Altmetrics	:

登録番号 : BB20112962
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 :

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.