喜多村 茜; 佐藤 隆博; 江夏 昌志; 神谷 富裕; 小林 知洋*
Kitamura, Akane; Sato, Takahiro; Koka, Masashi; Kamiya, Tomihiro; Kobayashi, Tomohiro*
2種類の異なるイオンビームを用いて、難加工材料であるテフロンの表面微細加工に成功した。材料内での直進性が高いMeV級のプロトンマイクロビームを用い、走査経路と描画速度を制御することによって、高さ250
m程度の円錐が作製できた。また、keV級の窒素分子イオンビーム照射を用いてテフロン表面に多数の突起状を形成する前に、あらかじめMeV級のプロトンマイクロビームによるパターン描画を行うことで、突起状表面内に描画形状に沿った滑らかな面を作製することができた。これらの微細構造は、テフロンへのイオンビームの照射によって初めて実現でき、テフロン固有の照射効果によるものである。
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使用言語 |
: | Japanese |
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: | 2012/10 |
開催都市 |
: | 高崎 |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
: | no keyword |
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