検索対象:     
報告書番号:
※ 半角英数字
 年 ~ 
 年

Spatial characterization of a divertor in the presence of an X-point MARFE by collisional-radiative modeling and line profile calculations

衝突放射モデルとスペクトル線形状によるX点MARFE存在下でのダイバータプラズマの空間的特徴づけ

Koubiti, M.*; 仲野 友英; Marandet, Y.*; Mekkaoui, A.*; Mouret, L.*; Rosato, J.*; Stamm, R.*

Koubiti, M.*; Nakano, Tomohide; Marandet, Y.*; Mekkaoui, A.*; Mouret, L.*; Rosato, J.*; Stamm, R.*

JT-60Uの非接触ダイバータプラズマから放射されるC IV(n=6-7)スペクトル線を高波長分解能可視分光器で測定し、そのスペクトル形状をPPPコードで解析した。以前の解析では、一組の電子密度と電子温度からPPPコードによって計算されたスペクトル形状と測定されたスペクトル形状を比較していた。この方法ではX点MARFEの周辺部では測定されたスペクトルをよく再現することができたが、X点MARFEの中心部では良い再現 が得られなかった。今回の解析では二組の電子密度と電子温度からPPPコードによって計算されたスペクトルを足し合わせることによって、測定されたスペクトルの再現に成功した。このときの電子密度と電子温度の組合せは、それぞれ、1$$times$$10$$^{20}$$ m$$^{-3}$$と23.0eV及び6$$times$$10$$^{20}$$ m$$^{-3}$$と2.5eVであり、それらの割合は65:35であった。

We have measured a profile of C IV spectral line emitted from the detached diverter plasma of JT-60U with a high-wavelength resolution spectrometer, and analyzed it with PPP code. In the previous analysis, the measured spectral profile was compared with the spectral profile calculated by the PPP code with one pair of electron density and temperature. With this method, the spectral profiles measured around the X-point were well reproduced, but the spectral profile measured at a very center of the X-point was not reproduced. In the present analysis, we have succeeded to reproduce the spectral profile measured at the very center of the X-point by synthesizing two spectra calculated with two pairs of electron densities and temperatures. One pair was 1$$times$$10$$^{20}$$ m$$^{-3}$$ and 23.0 eV, and the other 1$$times$$10$$^{20}$$ m$$^{-3}$$ and 2.5 eV. The contribution to the intensity of C IV spectral line of the first pair was 65% and that of the second 35%.

Access

:

- Accesses

InCites™

:

パーセンタイル:25.73

分野:Materials Science, Multidisciplinary

Altmetrics

:

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.