Orientation of one-dimensional silicon polymer films studied by polarization-dependent NEXAFS

偏光X線吸収微細構造法により明らかにした一次元状シリコンポリマーの配向について

Mannan, M. A.*; 馬場 祐治  ; 関口 哲弘  ; 下山 巖   ; 平尾 法恵; 永野 正光*; 野口 英行*

Mannan, M. A.*; Baba, Yuji; Sekiguchi, Tetsuhiro; Shimoyama, Iwao; Hirao, Norie; Nagano, Masamitsu*; Noguchi, Hideyuki*

直線偏光した放射光軟X線を用いたX線吸収微細構造法(NEXAFS)により、固体表面に蒸着した一次元状シリコンポリマーの配向を調べた。高配向性熱分解グラファイト(HOPG)表面に蒸着したポリジメチルシラン(PDMS)のSi K-吸収端NEXAFSスペクトルには明瞭な偏光依存性が観測された。この偏光依存性を解析した結果、PDMSはHOPG表面に平行に「寝ている」ことがわかった。これは金属銅やインジウムスズ酸化物(ITO)表面においてPDMS分子は垂直に「立っている」というわれわれが以前報告した結果と全く反対であった。このような表面による配向の違いを、表面の平坦性や基板-分子相互作用の大きさから議論した。

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