酸化グラフェンの還元におけるヒドラジン処理効果

Effects of hydrazine processing in reduction of oxidized graphene

渡辺大輝*; 小川修一*; 山口尚登*; 穂積英彬*; 江田剛輝*; Mattevi, C.*; 吉越章隆 ; 石塚眞治*; 寺岡有殿; 山田貴壽*; Chhowalla, M.*; 高桑雄二*

Watanabe, Daiki*; Ogawa, Shuichi*; Yamaguchi, Hisato*; Hozumi, Hideaki*; Eda, Goki*; Mattevi, C.*; Yoshigoe, Akitaka; Ishizuka, Shinji*; Teraoka, Yuden; Yamada, Takatoshi*; Chhowalla, M.*; Takakuwa, Yuji*

高輝度放射光を用いた光電子分光法により、ヒドラジン(H $_{4}$ N $_{2}$ )処理及び無処理の酸化グラフェンの真空加熱による還元過程をリアルタイム観察し、化学結合状態の変化を比較し、還元過程におけるH $_{4}$ N $_{2}$ 処理の効果について調べた。H $_{4}$ N $_{2}$ 処理後の加熱還元過程では、空孔などの欠陥成分の増加が大きく抑制されていることが明らかとなった。H $_{4}$ N $_{2}$ 処理によって酸化グラフェンの電気特性が改善するのは、酸化物が減少するだけでなく、アモルファス成分と空孔欠陥成分も低減するためとわかった。

no abstracts in English

使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:
巻	:
号	:
ページ数	:
発行年月	:
発表会議名	:	第32回表面科学学術講演会
開催年月	:	2012/11
開催都市	:	仙台
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:
研究データの公開先DOI	:
使用施設	:	SPring-8(大型放射光施設)
広報プレスリリース	:
論文解説記事 (成果普及情報誌)	:
受委託・共同研究相手機関	:	東北大学

Access	:	- Accesses
Web of Science® Times Cited Count	:	被引用回数：評価・統計等のため最新の被引用回数を確認したい場合は、直接Web of Science®をご確認ください。 http://www.webofknowledge.com/wos
InCites™	:
Altmetrics	:

登録番号 : BB20122277
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 :

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.