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Nitric acid concentration dependence of dicesium plutonium(IV) nitrate formation during solution growth of uranyl nitrate hexahydrate

硝酸ウラニル六水和物の溶液成長における硝酸セシウムプルトニウム(IV)の生成に及ぼす硝酸濃度依存性

中原 将海; 鍛治 直也; 矢野 公彦 ; 柴田 淳広  ; 竹内 正行 ; 岡野 正紀 ; 久野 剛彦 

Nakahara, Masaumi; Kaji, Naoya; Yano, Kimihiko; Shibata, Atsuhiro; Takeuchi, Masayuki; Okano, Masanori; Kuno, Takehiko

U晶析工程においてCs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$の生成挙動に及ぼすHNO$$_{3}$$濃度の依存性を調べた。硝酸ウラニル溶液に対するCs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$の溶解度は、HNO$$_{3}$$濃度が高くなるほど低下する傾向を示した。照射済高速炉燃料溶解液を用いた晶析実験では母液のHNO$$_{3}$$濃度が6.5mol/dm$$^{3}$$の条件において、Cs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$が析出し、硝酸ウラニル六水和物結晶に対するCsの除染係数は低下した。一方、母液のHNO$$_{3}$$濃度が4.0mol/dm$$^{3}$$のときは、Cs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$が生成せず、硝酸ウラニル六水和物結晶とCsが良好に分離できることを示した。

The influence of HNO$$_{3}$$ concentration in the solution on the formation of Cs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$ was evaluated in the U crystallization process. The solubility of Cs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$ in a uranyl nitrate solution was found to decrease with increasing HNO$$_{3}$$ concentration in the solution. In the U crystallization experiments with the dissolver solution of irradiated fast reactor fuel, Cs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$ formed with 6.5 mol/dm$$^{3}$$ HNO$$_{3}$$ concentration in the mother liquor, and the decontamination factor of Cs for the uranyl nitrate hexahydrate crystals was low. Meanwhile, Cs$$_{2}$$Pu(NO$$_{3}$$)$$_{6}$$ did not precipitate with uranyl nitrate hexahydrate crystals under the condition of 4.0 mol/dm$$^{3}$$ HNO$$_{3}$$ concentration in the mother liquor, and Cs could be separated from the uranyl nitrate hexahydrate crystals.

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Journal of Chemical Engineering of Japan

巻

 :

46

号

 :

1

ページ数

 :

p.56 - 62

発行年月

 :

2013/01

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

no keyword

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1252/jcej.12we175

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

CPF(高レベル放射性物質研究施設)  

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

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Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

パーセンタイル：6.32

分野：Engineering, Chemical

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